11月29日(水) AndTech「ナノインプリント技術の基礎と超微細加工に向けた装置の設計と各種応用展開」WEBオンライン Zoomセミナー講座を開講予定
リリース情報提供元： 
AndTech
大阪公立大学/大阪府立大学/3DPI研究会/応用物理学会/ナノインプリント技術研究会会長 平井 義彦 氏、芝浦機械株式会社 小久保 光典 氏、東京都立大学 柳下 崇 氏 にご講演をいただきます。
株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せるナノインプリントでの課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「ナノインプリント 」講座を開講いたします。 ナノインプリント技術の基礎と超微細加工に向けた装置の設計と各種応用展開、半導体・電子デバイス・光学材料への応用、モールドの作製と無反射レンズ形成について説明します。 本講座は、2023年11月29日開講を予定いたします。 詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1ee4ba0d-5987-6b3a-a6aa-064fb9a95405
Live配信・WEBセミナー講習会 概要
テーマ：ナノインプリント技術の基礎と超微細加工に向けた装置の設計と各種応用展開
～半導体・電子デバイス・光学材料への応用、モールドの作製と無反射レンズ形成～
開催日時：2023年11月29日(水) 10:30-17:15
参 加 費：55,000円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
U R L ：https://andtech.co.jp/seminars/1ee4ba0d-5987-6b3a-a6aa-064fb9a95405
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）
セミナー講習会内容構成
ープログラム・講師ー
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第1部 ナノインプリントリソグラフィのメカニズムと微細構造の作製技術と半導体・電子デバイスへの応用（仮題）
∽∽───────────────────────∽∽
講師 大阪公立大学 大学院 工学研究科 電子物理工学分野 特任研究員、量子放射線工学分野 客員研究員 / 大阪府立大学 名誉教授 / 3DPI研究会 研究会会長 / 応用物理学会 フェロー / ナノインプリント技術研究会会長 平井 義彦 氏
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第2部 ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例（仮題）
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講師 芝浦機械株式会社 執行役員 R&Dセンター 研究開発部 部長 小久保 光典 氏
∽∽───────────────────────∽∽
第3部 陽極酸化によるナノインプリント用モールドの 作製と無反射レンズ形成への応用
∽∽───────────────────────∽∽
講師 東京都立大学 都市環境学部 環境応用化学科 / 教授 柳下 崇 氏
本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
ナノインプリントのメカニズムに関わる力学(粘弾性、流体力学、破壊力学)、界面工学、高分子化学。
ナノインプリントの応用に関わる光学、半導体集積回路プロセス、メタバース、AI応用の基本
ナノインプリント手法を様々なデバイス作製，様々な箇所へ適用することに関しての問題点，注意点に加え，判断基準なども紹介いたします。
アルミニウムの陽極酸化による高規則性ポーラスアルミナ形成の基礎
陽極酸化ポーラスアルミナを用いたナノインプリント
曲面へのナノインプリント形成技術
無反射レンズの作製
本セミナーの受講形式
WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
株式会社AndTechについて
化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
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本件に関するお問い合わせ
株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）
下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）
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第1部 ナノインプリントリソグラフィのメカニズムと微細構造の作製技術と半導体・電子デバイスへの応用（仮題）
【講演主旨】
ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎をしっかり理解します。そのうえで、使用される樹脂やモールドについての知識や、プロセス・材料の最適設計、さらには欠陥対策等を理解します。また、三次元構造の作成技術等様々な可能性を秘めたシーズについて紹介します。
さらに先端半導体、メタバースなどへの応用展開やディープラーニングによるプロセス・材料設計などの最新の動向についても紹介します。
【プログラム】
１．ナノインプリント法の概要
２．熱ナノインプリントの基礎
2.1 熱ナノインプリントの原理・特徴と長短所
2.2 樹脂の粘弾性と成型性
2.3 形状依存性
2.4 成形速度依存性
2.5 残留応力
2.6 熱ナノインプリントプロセスの最適化
2.7 熱ナノインプリント用樹脂への要求特性
３．光ナノインプリントの基礎
3.1 光ナノインプリントの原理・特徴と長短所
3.2 樹脂の流動と充填
3.3 UV照射とパターンサイズ
3.4 UV硬化の基礎と材料特性
3.5 光ナノインプリント用樹脂への要求特性
４．多様な材料を用いたナノインプリントとその特徴
4.1 ガラス材料のナノインプリント
4.2 金属材料のナノインプリント
4.3 生分解樹脂、有機半導体のナノインプリント
5．離型技術
5.1 離型の基本メカニズム
(1)破壊力学によるシミュレーション
(2)離型のメカニズムとレジストの密着力、摩擦力
(3)モールド側壁傾斜角と離型性
(4)傾斜回折格子の離型
5.2 離型欠陥の低減
(1)離型剤による離型性改善
(2)偏析剤による離型性改善
(3)離型方法による離型性改善
(4)熱ナノインプリントとUVナノインプリントの離型性
6．ナノインプリント法のバリエーション
6.1 リバーサル・ナノインプリントによる三次元積層構造の作製
6.2 ハイブリッドナノインプリントによる三次元マイクロ・ナノ混在構造の作製
7. ディープラーニングを利用したナノインプリントのプロセス・材料設計の試み
7.1 ディープラーニングとナノインプリント
7.2 ディープラーニングによる未知材料へのナノインプリント
7.3 ディープラーニングを利用した逆問題の解によるプロセス余裕度の予測
8．ナノインプリントのメタバース、半導体応用と最新動向
8.1 光デバイス、メタバースへの応用
8.2 半導体・電子デバイスへの応用
8.3 バイオ、その他への応用
9．今後の展開と課題
【質疑応答】
∽∽───────────────────────∽∽
第2部 ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例（仮題）
【講演主旨】
低コスト微細構造形成技術である、ナノインプリント成形技術の概要について紹介するとともに、超精密加工機による金型加工にも触れる。
ナノインプリント装置に関しては直押し方式の微細転写装置に加え、大面積化・高スループット化へのアプローチとして注目されているRoll to Roll方式の装置開発状況について説明し、デバイスへの適用例として、LEDの高輝度化、ウエハレベルレンズ、大面積 (G2 (370×470mm) ) サイズのWGP (ワイヤーグリッド偏光子) について解説する。
【プログラム】
１．芝浦機械株式会社の紹介
２．ナノインプリントプロセス
2.1 ナノインプリントプロセスの概要と特徴
2.2 ナノインプリントプロセス適用デバイス例
2.3 ナノインプリント装置構成と特徴
３．ナノインプリント装置と転写事例の紹介
3.1 直押し方式ナノインプリント装置 ST series
3.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT series
４．ナノインプリント手法を用いたデバイス適用例の紹介
4.1 LED
4.1.1 プロセス説明
4.1.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT seriesによるフィルムモールド作製
4.1.3 高輝度LED専用ナノインプリント装置 ST50S-LED
4.2 WLL（Wafer Level Lens ウエハレベルレンズ）
4.2.1 プロセス説明
4.2.2 機械加工およびStep & Repeat方式ナノインプリントによるマイクロレンズアレイモールド製作
4.2.3 WLL専用ナノインプリント装置 ST01S-WL
4.3 ワイヤーグリッド偏光子（大面積転写）
4.3.1 プロセス説明
4.3.2 インクジェットレジスト塗工による大面積（G2(370×470mm)）サイズのWGP作製（残膜（RLT:Residual Layer Thickness）目標50nm以下への挑戦
4.3.3 G2(370×470mm)サイズWGP転写用Roll to Plate(RtP)装置 ST(G2)-RtP
【質疑応答】
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第3部 陽極酸化によるナノインプリント用モールドの 作製と無反射レンズ形成への応用
【講演主旨】
アルミニウムの陽極酸化によって得られる陽極酸化ポーラスアルミナは，サイズの均一な細孔が規則的に配列したハニカム構造を大面積で作製できることから，ナノインプリント用モールドとして優れた材料である．陽極酸化ポーラスアルミナの細孔径は数nm～1.5μmの範囲で制御可能であり，細孔深さも任意に制御できる．加えて細孔形状の制御も可能であるため，反射防止構造として機能するモスアイ構造の形成に適したテーパー形状に制御することもできる．本講演では，高規則性ポーラスアルミナモールドの作製から，ナノインプリントへの適用，更には，ナノインプリントプロセスによってレンズ表面にモスアイ構造形成を行った結果について紹介する．
【プログラム】
１． アルミニウムの陽極酸化による高規則性ポーラスアルミナの形成と幾何学構造制御
２． 陽極酸化ポーラスアルミナを用いたナノインプリントによるナノ規則表面の形成
３． 陽極酸化ポーラスアルミナを用いたモスアイ構造の形成と特性最適化
４． ナノインプリントプロセスによるレンズ表面へのモスアイ構造の形成
５． 陽極酸化ポーラスアルミナを用いた射出成型による無反射レンズの作製
【質疑応答】
＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以 上
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大阪公立大学/大阪府立大学/3DPI研究会/応用物理学会/ナノインプリント技術研究会会長 平井 義彦 氏、芝浦機械株式会社 小久保 光典 氏、東京都立大学 柳下 崇 氏 にご講演をいただきます。
株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せるナノインプリントでの課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「ナノインプリント 」講座を開講いたします。 ナノインプリント技術の基礎と超微細加工に向けた装置の設計と各種応用展開、半導体・電子デバイス・光学材料への応用、モールドの作製と無反射レンズ形成について説明します。 本講座は、2023年11月29日開講を予定いたします。 詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1ee4ba0d-5987-6b3a-a6aa-064fb9a95405
Live配信・WEBセミナー講習会 概要
テーマ：ナノインプリント技術の基礎と超微細加工に向けた装置の設計と各種応用展開
～半導体・電子デバイス・光学材料への応用、モールドの作製と無反射レンズ形成～
開催日時：2023年11月29日(水) 10:30-17:15
参 加 費：55,000円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
U R L ：https://andtech.co.jp/seminars/1ee4ba0d-5987-6b3a-a6aa-064fb9a95405
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）
セミナー講習会内容構成
ープログラム・講師ー
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第1部 ナノインプリントリソグラフィのメカニズムと微細構造の作製技術と半導体・電子デバイスへの応用（仮題）
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講師 大阪公立大学 大学院 工学研究科 電子物理工学分野 特任研究員、量子放射線工学分野 客員研究員 / 大阪府立大学 名誉教授 / 3DPI研究会 研究会会長 / 応用物理学会 フェロー / ナノインプリント技術研究会会長 平井 義彦 氏
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第2部 ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例（仮題）
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講師 芝浦機械株式会社 執行役員 R&Dセンター 研究開発部 部長 小久保 光典 氏
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第3部 陽極酸化によるナノインプリント用モールドの 作製と無反射レンズ形成への応用
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講師 東京都立大学 都市環境学部 環境応用化学科 / 教授 柳下 崇 氏
本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
ナノインプリントのメカニズムに関わる力学(粘弾性、流体力学、破壊力学)、界面工学、高分子化学。
ナノインプリントの応用に関わる光学、半導体集積回路プロセス、メタバース、AI応用の基本
ナノインプリント手法を様々なデバイス作製，様々な箇所へ適用することに関しての問題点，注意点に加え，判断基準なども紹介いたします。
アルミニウムの陽極酸化による高規則性ポーラスアルミナ形成の基礎
陽極酸化ポーラスアルミナを用いたナノインプリント
曲面へのナノインプリント形成技術
無反射レンズの作製
本セミナーの受講形式
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詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
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化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
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経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
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株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）
下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）
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第1部 ナノインプリントリソグラフィのメカニズムと微細構造の作製技術と半導体・電子デバイスへの応用（仮題）
【講演主旨】
ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎をしっかり理解します。そのうえで、使用される樹脂やモールドについての知識や、プロセス・材料の最適設計、さらには欠陥対策等を理解します。また、三次元構造の作成技術等様々な可能性を秘めたシーズについて紹介します。
さらに先端半導体、メタバースなどへの応用展開やディープラーニングによるプロセス・材料設計などの最新の動向についても紹介します。
【プログラム】
１．ナノインプリント法の概要
２．熱ナノインプリントの基礎
2.1 熱ナノインプリントの原理・特徴と長短所
2.2 樹脂の粘弾性と成型性
2.3 形状依存性
2.4 成形速度依存性
2.5 残留応力
2.6 熱ナノインプリントプロセスの最適化
2.7 熱ナノインプリント用樹脂への要求特性
３．光ナノインプリントの基礎
3.1 光ナノインプリントの原理・特徴と長短所
3.2 樹脂の流動と充填
3.3 UV照射とパターンサイズ
3.4 UV硬化の基礎と材料特性
3.5 光ナノインプリント用樹脂への要求特性
４．多様な材料を用いたナノインプリントとその特徴
4.1 ガラス材料のナノインプリント
4.2 金属材料のナノインプリント
4.3 生分解樹脂、有機半導体のナノインプリント
5．離型技術
5.1 離型の基本メカニズム
(1)破壊力学によるシミュレーション
(2)離型のメカニズムとレジストの密着力、摩擦力
(3)モールド側壁傾斜角と離型性
(4)傾斜回折格子の離型
5.2 離型欠陥の低減
(1)離型剤による離型性改善
(2)偏析剤による離型性改善
(3)離型方法による離型性改善
(4)熱ナノインプリントとUVナノインプリントの離型性
6．ナノインプリント法のバリエーション
6.1 リバーサル・ナノインプリントによる三次元積層構造の作製
6.2 ハイブリッドナノインプリントによる三次元マイクロ・ナノ混在構造の作製
7. ディープラーニングを利用したナノインプリントのプロセス・材料設計の試み
7.1 ディープラーニングとナノインプリント
7.2 ディープラーニングによる未知材料へのナノインプリント
7.3 ディープラーニングを利用した逆問題の解によるプロセス余裕度の予測
8．ナノインプリントのメタバース、半導体応用と最新動向
8.1 光デバイス、メタバースへの応用
8.2 半導体・電子デバイスへの応用
8.3 バイオ、その他への応用
9．今後の展開と課題
【質疑応答】
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第2部 ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例（仮題）
【講演主旨】
低コスト微細構造形成技術である、ナノインプリント成形技術の概要について紹介するとともに、超精密加工機による金型加工にも触れる。
ナノインプリント装置に関しては直押し方式の微細転写装置に加え、大面積化・高スループット化へのアプローチとして注目されているRoll to Roll方式の装置開発状況について説明し、デバイスへの適用例として、LEDの高輝度化、ウエハレベルレンズ、大面積 (G2 (370×470mm) ) サイズのWGP (ワイヤーグリッド偏光子) について解説する。
【プログラム】
１．芝浦機械株式会社の紹介
２．ナノインプリントプロセス
2.1 ナノインプリントプロセスの概要と特徴
2.2 ナノインプリントプロセス適用デバイス例
2.3 ナノインプリント装置構成と特徴
３．ナノインプリント装置と転写事例の紹介
3.1 直押し方式ナノインプリント装置 ST series
3.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT series
４．ナノインプリント手法を用いたデバイス適用例の紹介
4.1 LED
4.1.1 プロセス説明
4.1.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT seriesによるフィルムモールド作製
4.1.3 高輝度LED専用ナノインプリント装置 ST50S-LED
4.2 WLL（Wafer Level Lens ウエハレベルレンズ）
4.2.1 プロセス説明
4.2.2 機械加工およびStep & Repeat方式ナノインプリントによるマイクロレンズアレイモールド製作
4.2.3 WLL専用ナノインプリント装置 ST01S-WL
4.3 ワイヤーグリッド偏光子（大面積転写）
4.3.1 プロセス説明
4.3.2 インクジェットレジスト塗工による大面積（G2(370×470mm)）サイズのWGP作製（残膜（RLT:Residual Layer Thickness）目標50nm以下への挑戦
4.3.3 G2(370×470mm)サイズWGP転写用Roll to Plate(RtP)装置 ST(G2)-RtP
【質疑応答】
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第3部 陽極酸化によるナノインプリント用モールドの 作製と無反射レンズ形成への応用
【講演主旨】
アルミニウムの陽極酸化によって得られる陽極酸化ポーラスアルミナは，サイズの均一な細孔が規則的に配列したハニカム構造を大面積で作製できることから，ナノインプリント用モールドとして優れた材料である．陽極酸化ポーラスアルミナの細孔径は数nm～1.5μmの範囲で制御可能であり，細孔深さも任意に制御できる．加えて細孔形状の制御も可能であるため，反射防止構造として機能するモスアイ構造の形成に適したテーパー形状に制御することもできる．本講演では，高規則性ポーラスアルミナモールドの作製から，ナノインプリントへの適用，更には，ナノインプリントプロセスによってレンズ表面にモスアイ構造形成を行った結果について紹介する．
【プログラム】
１． アルミニウムの陽極酸化による高規則性ポーラスアルミナの形成と幾何学構造制御
２． 陽極酸化ポーラスアルミナを用いたナノインプリントによるナノ規則表面の形成
３． 陽極酸化ポーラスアルミナを用いたモスアイ構造の形成と特性最適化
４． ナノインプリントプロセスによるレンズ表面へのモスアイ構造の形成
５． 陽極酸化ポーラスアルミナを用いた射出成型による無反射レンズの作製
【質疑応答】
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